紫外臭氧清洗機原理：

通過紫外燈發出適當強度的185nm和254nm波長高能紫外線破壞有物分子(污染物)。185nm波長紫外光的光能量能將空氣中的氧氣(O2)分解成臭氧(O3)，而254nm波長的紫外光的光能量能將O3分解成O2和原子氧(O)，  254 nm紫外線同時激發表面的有機物分子，提高其敏感性，可以被臭氧分子團破壞。在連續進行的光敏氧化反應中，生成的活性原子氧(O)與活化了的有機物(即碳氫化合物)分子發生氧化反應，生成揮發性氣體(如CO2，CO, H2O,NO等)逸出材料表面，從而清除粘附在材料表面上的碳和有機污染物，達到清洗的目的。
應用領域：
   u 石英/玻璃制品的表面清洗：液晶面板,等離子電視屏幕,彩色過濾片,光罩,棱鏡,透鏡,反射鏡,平板電視等。

u 微電子產品的表面清洗：微型馬達軸,磁頭驅動架,光盤,光電器件,手機攝像頭,微型喇叭/受話器震膜,半導體硅片,掩膜版。

u 精密集成電路的表面清洗：液晶顯示器ITO,精密電路板,軟性電路板接頭,BGA基板的清洗,COG的清洗,COF(ILB)接合面的清洗,薄膜基板的清洗,金屬基板的清洗,BGA基板與粘結墊的清洗。

u 在膠粘接或是印刷之前，對高分子聚合制品的表面改性：橡膠粘接，塑料汽車部件，透鏡保護膜,塑料薄膜,樹脂成型空氣袋,IC包裝,注射針接合部分的表面性,介入導管的表面改型等。

u 科研過程的表面清洗及處理：半導體，生物芯片，納米材料，聚合物，光化學等。

產品特點

智能化操作與控制

u 多樣控制：提供基礎型（四鍵可編程控制器）和高級型（5寸彩色觸摸屏）兩種操作界面，滿足不同需求。

u 參數管理：可設置并自動記錄清洗參數，數字正計時顯示（1-999分鐘），支持過程中斷。

u 智能補償：具備自動光強補償功能，確保燈管老化后清洗效果依然穩定。

精確與靈活的樣品處理

u 溫控可選：樣品臺可選配加熱功能，控溫范圍室溫至200℃，精度達0.1℃。

u 靈活放置：上置式樣品臺可360度自由旋轉且高度可調，便于定位和放置各類樣品。

核心光源與反應系統

u 高性能光源：采用高強度UV石英低壓汞燈，主波長185nm和254nm，燈管壽命約8000小時。

u 高效反射：UV反射罩尺寸經過優化，比燈管大25mm，以提高光能利用率。

u 反應腔定制：可根據客戶需求，提供鋁或石英材質的真空反應腔定制。

安全與環保設計

u 雙重安全保護：配備安全鎖與燈光狀態提示，開蓋即自動關閉UV燈，保障使用者安全。

u 氣路與臭氧管理：標配進/出氣口，可接入氧氣以增強臭氧產量；部分型號可內置或外置臭氧中和器，用于清除殘余臭氧。

注：UVO型基礎型樣品臺不帶加熱功能，樣品臺高度可調；UVOP可選配樣品臺加熱功能，樣品臺高度可調；UVOT標配樣品臺加熱功能，樣品臺高度可調。可選臭氧中和裝置。