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  • SC1CIF-Spin Processor
    SC1CIF-Spin Processor

    CIF-Spin Processor轉速穩定、啟動迅速,旋涂均勻,操作簡單,結構緊湊實用,為實驗室提供了理想的解決方案。廣泛應用于微電子、半導體、新能源、化工材料、生物材料、光學,硅片、載玻片,晶片,基片,ITO 導電玻璃等工藝制版表面涂覆等。

    時間:2026-03-23型號:SC1訪問量:12542
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  • CIF-SEM掃描電鏡等離子清洗機
    CIF-SEM掃描電鏡等離子清洗機

    CIF掃描電鏡(SEM)等離子清洗機采用遠程等離子清洗源,在實現高效、快速清洗的同時,能顯著降低對樣品的轟擊損傷。本設備主要用于清除SEM、FIB等儀器腔體及樣品表面的碳氫化合物污染,兼容國內外主流電鏡品牌,保障設備性能與成像質量。

    時間:2026-05-14型號:CIF-SEM訪問量:13682
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  • CPC15/35/80/120/150CIF生產型等離子清洗機
    CPC15/35/80/120/150CIF生產型等離子清洗機

    CIF生產型等離子清洗機 CIF 推出的中試生產型等離子清洗機是為研發型客戶和工業級客 戶而設計的等離子體表面處理設備。配置豐富, 且真空腔體里可分層, 適合大多數生產場景清洗,活化、刻蝕等應用。設備可在嚴苛環境下 穩定運行,產品性能穩定,樣品處理重復性、一致性好。

    時間:2026-03-23型號:CPC15/35/80/120/150訪問量:8641
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  • PH22CIF烤膠機
    PH22CIF烤膠機

    CIF烤膠機是一種控溫加熱 設備。主要用于半導體硅片, 載玻片,晶片,基片,ITO 導 電玻璃等工藝的制版的表面涂 覆后薄膜烘干、固化。

    時間:2026-03-23型號:PH22訪問量:16180
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  • CIF Spin Coater勻膠機
    CIF Spin Coater勻膠機

    Spin Coater勻膠機進行滴膠就是簡單地把光刻膠滴注到靜止的基片表面的中心,滴膠量為1-10ml不等。滴膠的多少應根據光刻膠的粘度和基片的大小來確定。粘度比較高和/或基片比較大,往往需要滴較多的膠,以保證在高速旋轉階段整個基片上都涂到膠。

    時間:2026-03-23型號:CIF Spin Coater訪問量:6247
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  • MSC/SC1/2CIF勻膠旋涂儀
    MSC/SC1/2CIF勻膠旋涂儀

    CIF 推出的旋涂機系列產品轉速穩定、啟動迅速,旋涂均勻,操作簡單,結構緊湊實用,CIF勻膠旋涂儀為實驗室提供了理想的解決方案。

    時間:2026-03-23型號:MSC/SC1/2訪問量:9833
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  • UVO5/UVO9/UVO13CIF紫外臭氧清洗機
    UVO5/UVO9/UVO13CIF紫外臭氧清洗機

    紫外臭氧清洗機(UVO),是一種簡單,經濟,快速高效的材料表面清洗設備,能快速去除大多數無機基材(比如石英,硅片,金,鎳,鋁,砷化鎵,氧化鋁等)上的有機污染物。CIF推出的紫外臭氧清洗機系列產品采用長壽命UV石英低壓汞蒸汽格柵燈,樣品臺高度可調,可選加熱控溫,以便達到Z佳清洗效果。

    時間:2026-05-14型號:UVO5/UVO9/UVO13訪問量:9217
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  • CPCP3plus粉體等離子清洗機
    CPCP3plus粉體等離子清洗機

    CIF粉體專用等離子清洗機,專為粉末、顆粒等微細材料設計。它突破了傳統真空等離子設備在處理粉體樣品時的技術瓶頸,可高效處理微米乃至納米級別的超細粉體,同時兼容常規材料的高品質清洗與表面處理需求。

    時間:2026-05-14型號:CPCP3plus訪問量:7098
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