CIF推出的新一代科研型等離子清洗設(shè)備，通過協(xié)同優(yōu)化的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)與腔體空間，顯著拓展了樣品處理容量與應(yīng)用范圍。該設(shè)備性能可靠，兼顧了操作的簡便性與維護(hù)的便捷性，滿足高標(biāo)準(zhǔn)科研需求。  

等離子清洗機(jī)原理

等離子體是物質(zhì)的第四態(tài)，本質(zhì)上是離子化的氣體。它由自由移動的電子、正離子及未電離的中性粒子（原子或分子）混合組成，宏觀上呈電中性，內(nèi)部富含高活性的自由基、激發(fā)態(tài)粒子與光子，能量很高。

等離子清洗機(jī)正是利用此特性工作：通過射頻電源激發(fā)工藝氣體，使其電離產(chǎn)生低溫等離子體。這些高活性粒子隨后轟擊材料表面，通過物理濺射與化學(xué)反應(yīng)，有效清除污染物或改變表面性質(zhì)，從而實(shí)現(xiàn)清潔、活化、改性等目的。

應(yīng)用領(lǐng)域

納米材料、半導(dǎo)體、微電子、PCB線路板、LED、微流控、光電太陽能、人造血管、人造支架、石墨烯電池。

產(chǎn)品特點(diǎn)

u 智能交互界面：配備7寸彩色觸摸屏，支持中英文雙語操作，可實(shí)時(shí)監(jiān)測與自動調(diào)節(jié)工藝參數(shù)，內(nèi)置20組配方程序，工藝數(shù)據(jù)可存儲、可追溯。

u 可靠控制系統(tǒng)：采用PLC全程控制，支持手動與自動兩種工作模式，確保清洗過程穩(wěn)定可靠。

u 雙向智能真空控制：系統(tǒng)可通過調(diào)節(jié)氣體流量或腔體壓力兩種模式精準(zhǔn)控制真空壓力，工藝調(diào)控更靈活、更智能，滿足多樣化的精密處理需求。

u 精準(zhǔn)氣體管理：搭載氣體浮子流量計(jì)或質(zhì)量流量計(jì)，支持氧氣、氬氣、氮?dú)狻錃饧盎旌蠚怏w等多種氣源，控制精度高。

u 潔凈防污設(shè)計(jì)：具備氣體返填吹掃功能，配備HEPA高效過濾器，有效防止二次污染。

u 優(yōu)質(zhì)材質(zhì)結(jié)構(gòu)：真空艙體可選316不銹鋼或石英材質(zhì)，全真空管路系統(tǒng)均為316不銹鋼，耐腐蝕、無污染。

u 人性化操作設(shè)計(jì)：操作面板采用60°傾角設(shè)計(jì)，符合人體工學(xué)，界面友好、操作便捷；上控制下艙體結(jié)構(gòu)緊湊，節(jié)省空間；前面板內(nèi)凹設(shè)計(jì)，保護(hù)流量計(jì)與艙門不易受損。

u 高效穩(wěn)定工藝：處理過程快速、均勻，重復(fù)性好，無污染；樣品處理溫度低，避免熱損傷與熱氧化。

u 周全安全保護(hù)：艙門開啟即自動斷電，并配備可控泄壓等多重防護(hù)機(jī)制，保障操作與樣品安全。